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半导体晶片切割制造用超纯水设备

发布日期:2018-08-13 16:11 作者:南京水处理工程师 来源:南京水处理设备工程公司

  (一)、半导体晶片切割制造用超纯水设备的概述

  在半导体片材上进行浸蚀,布线,制成的能实现某种功能的半导体器件。不只是硅晶片,常见的还包括砷化镓(砷化镓有毒,所以一些劣质电路板不要好奇分解它),锗等半导体材料。半导体也像汽车有潮流。莱特莱德南京水处理设备公司生产的半导体晶片切割制造用超纯水设备采用了先进的超纯水处理工程技术,产品质量优越,产品性能安全稳定,产品价格符合行业要求。

 

超纯水设备

超纯水设备

 

  (二)、半导体晶片切割制造用超纯水设备的工艺

  1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

  2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)

  3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(新工艺)

  4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(新工艺)

  5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

 

晶片切割制造用超纯水设备

晶片切割制造用超纯水设备

 

  (三)、半导体晶片切割制造用超纯水设备的优点

  1、无需酸碱再生:在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生,而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。保护了环境。

  2、连续、简单的操作:在混床中由于每次再生和水质量的变化,使操作过程变得复杂,而EDI的产水过程是稳定的连续的,产水水质是恒定的,没有复杂的操作程序,操作大大简便化。

  3、降低了安装的要求:EDI系统与相当处理水量的混床相比,有较不的体积,它采用积木式结构,可依据场地的高度和窨灵活地构造。模块化的设计,使EDI在生产工作时能方便维护。

 

半导体晶片切割制造用超纯水设备

半导体晶片切割制造用超纯水设备

 

  莱特莱德南京水处理设备公司是一家专业的水处理设备公司,具有水处理行业十年的工程方面的丰富经验。我们正对各行标准及国家标准,开发生产出满足客户需求的水处理设备,汇集了一批长期从事水处理技术研究、工程应用、实践经验丰富的工程技术人才,并拥有一支由十几位技师带队的经验丰富的安装工程队伍。莱特莱德南京水处理设备公司以精湛的技术、优良的设备及工程质量获得了用户的认可和好评,及时的售后服务在水处理行业赢得了良好信誉。